脉冲激光沉积(PLD) 利用激光对靶材表面烧蚀，并将烧蚀物质沉积在衬底上形成薄膜 详细咨询镭宝光电

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。通常的PLD系统主要由真空腔和脉冲激光器等设备组成，将激光通过合适的透镜聚焦到真空腔内的靶材上，靶材材料不同，选用的激光波长不同，常用波长有266nm、355nm、248nm等等，有些材料也会用到532nm 和1064nm激光。某客户采用北京镭宝光电技术有限公司开发的智能化Nimma-HG-Pro脉冲固体激光器自主研发的三光束脉冲激光共沉积系统，用于大尺寸超导薄膜的制备。超导体被誉为电子无阻碍运动的“高速公路”，如何让超导材料变得比头发丝的百分之一还要细、还要薄呢？在高能激光束下，3000℃的高温能够瞬间改变材料形态，最终沉积形成手掌大小的薄膜，用他制作的超导芯片速度更快，能耗更小。在未来，7G,8G以及下一代更高的通讯技术通过它都可以实现。